上海納騰儀器有限公司
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產(chǎn)品型號μMLA
品 牌
廠商性質(zhì)其他
所 在 地上海
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更新時間：2025-01-12 11:06:35瀏覽次數(shù)：47次
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μMLA是桌面式激光直寫的新技術(shù)，在科研微結(jié)構(gòu)的應(yīng)用領(lǐng)域中是一臺適合入門級的工具。μMLA具有靈活性和可定制性，可支持小至毫米大小范圍的樣品。
μMLA原理：
利用強度可變的激光束對基片表面的抗蝕材料實施變劑量曝光，顯影后便在抗蝕層表面形成要求的圖形。
μMLA具有以下優(yōu)點：
? 分辨率高
? 無掩模光刻
? 靈活性與可定制性
? 可以設(shè)定多樣的實驗條件
主要功能
? 光柵掃描曝光
? 快速曝光復雜的圖形
? 灰度光刻
技術(shù)能力
? 基板尺寸：從5毫米到5英寸
? 特征尺寸：低至0.6 µm
? 寫入速度（4 µm分辨率）：200 mm 2 / min
? 實時自動對焦系統(tǒng)
? 正面對準
? 易于使用的操作軟件
? 2種可用的光學設(shè)置
? 曝光模塊選擇：光柵和/或矢量掃描
? 可變分辨率
? 繪畫模式
? 波長（光柵掃描）：390 nm或365 nm曝光波長
? 波長（矢量掃描）：405 nm和/或375 nm
? 廣角攝像機，用于對準和檢查
應(yīng)用
半導體芯片、微機電、微流體、微光學、掩模版及其他有微納米結(jié)構(gòu)需求的領(lǐng)域。 
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